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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品廠商:創(chuàng)想
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簡單介紹:
儀器儀表展覽網(wǎng)為您推薦的立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦 基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L采用**代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ;鑄金儀器供應的國產(chǎn)直讀光譜儀CX-9800L立式光譜儀核心器件全部原裝進口,**了儀器優(yōu)良品質(zhì)。
詳情介紹:

立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L

立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L應用領域:

CX-9800(L)全譜直讀光譜儀應用**代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗。立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的**選擇。

立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L主要**:

1、**代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ;

2、引進歐洲技術(shù)、同**光譜儀技術(shù)同步,國內(nèi)生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商;

3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用

4、升級多基體方便,無須變動增加硬件 ;

5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ;

6、體積小、重量輕, 移動安裝方便 ;

7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ;

立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L主要特點:

1、可測定包括痕量碳(C),磷(P,硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦  基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;

2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設置預燃時間及標線,使儀器用短的時間達到優(yōu)的分析效果;

3、光學系統(tǒng)采用真空恒溫光室, 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光室,實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性好;

4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設計,使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半;

5、自動光路校準,光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描,**接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定;

6、開放式的電*架設計,可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;

7、工作曲線采用**標樣,預做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴展范圍,每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;

8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應各種不同材料 ;

9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運行穩(wěn)定性;

10、銅火花臺底座,提高散熱性及堅固性能;

11、合理的氬氣氣路設計,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;

12、采用鎢材料電*,電*使用壽命更長,并設計了電*自吹掃功能,清潔電*更加容易;

13、高性能DSPARM處理器,具有*高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況;

14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;

15、核心器件全部原裝進口,**了儀器優(yōu)良品質(zhì)。

立式全譜火花直讀光譜儀CX-9800L參數(shù)指標:

光學系統(tǒng)

光學結(jié)構(gòu)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學系統(tǒng)

光室溫度

自動控制恒溫:35℃±0.5

波長范圍

160-800nm

光柵焦距

350 mm

光柵刻線

3600 l/mm

上等光譜線色散率

1.2 nm/mm

探測器

多塊高性能線陣CCD

平均分辨率

10pm/pixel

激發(fā)臺

  

沖氬式

氬氣流量

激發(fā)時3-5L/min, 待機時:無須待機流量

   *

鎢材噴射電*技術(shù)

  

點擊自吹掃功能

  

熱變形自補償設計

分析間隙

樣品臺分析間隙:4mm

激發(fā)光源

  

HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

  

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術(shù)

放電參數(shù)優(yōu)化設計

  

高能預燃技術(shù)

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器

優(yōu)異ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理

   

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

  

220VAC 50Hz

  

分析時*大700W,待機狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5/h

工作濕度

20-80%

尺寸與重量

主機尺寸

800*750*500 mm

     

120Kg

 

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